Im Rahmen unseres kontinuierlichen Verbesserungsprozesses haben wir eine neue chemische Ätzanlage SCHMID ES Infinity Line (AT) in Betrieb genommen, die die Präzision und Stabilität des Leiterplattenfertigungsprozesses optimiert.

Die neue Anlage nutzt saures Ätzen mit Kupfer(II)-chlorid und verfügt über ein fortschrittliches Vakuumsystem (vacuum etch), das den Ätzfaktor verbessert, den Undercut reduziert und selbst bei hohen Kupferstärken hervorragende Ergebnisse bei feinen Leiterbahnstrukturen ermöglicht. Die höhere Präzision der Leiterbahngeometrie trägt zu einer verbesserten Impedanzkontrolle und einer höheren Wiederholgenauigkeit der Ergebnisse bei.

Darüber hinaus verfügt die Anlage über ein vollautomatisches Dosiersystem, das auf der kontinuierlichen Überwachung der Leitfähigkeit, des Redoxpotenzials und der Dichte der Lösung basiert, sowie über eine zentralisierte digitale Überwachung sämtlicher Prozessparameter. Das konfigurierbare Sprühsystem und die Zyklonfiltration der Ätzlösung gewährleisten eine höhere Gleichmäßigkeit, Stabilität und Wiederholbarkeit während des Fertigungsprozesses.

Mit dieser neuen Anlage stärken wir unsere Fähigkeit, Hightech-Leiterplatten mit der Präzision zu fertigen, die in besonders anspruchsvollen Branchen wie Verteidigung, Luftfahrt, Raumfahrt, Medizintechnik und Telekommunikation erforderlich ist.

Bei Lab Circuits setzen wir weiterhin auf Innovation und kontinuierliche Verbesserung, um immer präzisere, zuverlässigere und wettbewerbsfähigere Fertigungslösungen anzubieten.